Stipendienausschreibung

Das Deutsche Historische Institut in Warschau vergibt anlässlich einer internationalen Konferenz über „Arbeit in den nationalsozialistischen Ghettos“ für eine Konferenzteilnahme Anfang Dezember 2010 einwöchige Stipendien

Am 3. und 4. Dezember 2010 veranstalten das Deutsche Historische Institut in Warschau und  das Żydowski Instytut Historyczny eine internationale Tagung über „Arbeit in den nationalsozialistischen Ghettos“. Im Rahmen dieser Tagung werden in sechs thematisch gegliederten Sektionen die wichtigsten Aspekte der jüdischen Ghettoarbeit im Zweiten Weltkrieg sowie deren Vor- und Nachgeschichte vorgestellt und erörtert. Das Tagungsprogramm ist einsehbar unter <link file:650 _blank download>link.

Zur Förderung des wissenschaftlichen Nachwuchses fördert das Deutsche Historische Institut Warschau die Teilnahme jüngerer Wissenschaftler/innen an dieser Tagung mit einem Stipendium. Das Stipendium soll neben der Tagungsteilnahme zugleich die Möglichkeit eröffnen, den Aufenthalt zu einer kurzfristigen Arbeit in der Bibliothek des Deutschen Historischen Instituts oder zu einer Orientierung über Bestände verschiedener Warschauer Archive und Bibliotheken zu nutzen. Das Stipendium ist daher für einen einwöchigen Aufenthalt vom 29.11. bis 5.12.2010 vorgesehen und beträgt 400,- €.

Bewerben können sich Doktoranden, die zu einem mit der Konferenz in Zusammenhang stehenden Thema arbeiten. Es sollten bereits Vorarbeiten für die eigene Qualifikationsarbeit geleistet worden sein. Die Bewerbung (mit einem Motivationsschreiben, aus dem das Interesse an der Konferenz hervorgeht; einer ein- bis zweiseitigen Skizze des Qualifikationsprojekts; Angaben zu den wissenschaftlichen Betreuern der Arbeit und einem Lebenslauf) ist per e-mail bis 1. 10. 2010 zu richten an den Direktor des Deutschen Historischen Instituts, Prof. Dr. Eduard Mühle (muehle @dhi.waw.pl)

26
Jun
Kolloquium
Ekaterina Oleshkevich (Bar-Ilan University, Israel): Baby farming in the Polish lands: moral economy and changing maternal perceptions
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